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事業活動での取り組み:省資源・リサイクル -用水の適正使用-

半導体事業の用水リサイクル

循環利用した超純水によるウェハ表面洗浄工程の様子循環利用した超純水による
ウェハ表面洗浄工程の様子

日本/リコー電子デバイス(株)やしろ工場

半導体製造は、生産プロセスが200~300工程におよび、各工程で製品(シリコンウェハ)に処理を施すたびに不純物を洗い流すため、水を大量に必要とします。リコーグループの半導体製造事業を担うやしろ工場では、用水の徹底した有効活用を目指し、1989年の操業当時から高効率の「用水クローズドリサイクルシステム」を導入しています。
ウェハの処理はクリーンルームで行われ、その工程では超純水が使用されます。水道からの水はいったん純水製造システムに取り込まれ、一次処理、二次処理を経て超純水となって生産ラインに供給されます。生産工程で使用(主にウェハの洗浄)した水は、不純物の含有率によって3つの等級に分けて排水ラインで回収されます。不純物が比較的少ないレベル1の排水は、純水回収系処理システムを通したあと、純水製造システム側へ戻され、再び超純水として使用されます。レベル2の排水は、純水回収系処理システムを通すことにより、純水(超純水よりグレードの低い水)として再生され、ボイラー用水、冷凍機の冷却水などに利用されます。レベル3の排水は廃液処理システムによって中和処理等を行った後、下水道放流されています。
また、この「用水クローズドリサイクルシステム」で処理されるウェハ洗浄用水以外の水についても、リサイクル活動を行っています。例えば、貫流ボイラーの溶存酸素測定用のサンプル水は従来、測定後は放流していましたが、この水をボイラー用水として再利用できるようにしました。その際、各装置の位置を変更することで、落差を利用してホットウェルタンクへ給水し、ポンプ等のエネルギーを使用することなく、用水の再利用が可能になりました。
やしろ事業所では、これらの活動により、用水全体の約63.9%をリサイクル水でまかなっており、年間に換算すると約245千m3(2012年度実績)の用水使用量の削減を実現しています。